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當前位置:首頁產品中心Otsuka/大塚電子SF-3Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計
產品簡介:

Otsuka大塚電子 SF-3 光譜干涉法晶圓厚度計
Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

產品型號:SF-3

更新時間:2026-03-20

廠商性質:代理商

訪問量:100

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Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計



Otsuka 大塚電子(Otsuka Electronics)SF-3 是一款 超高速、光譜干涉法(分光干涉式) 的非接觸晶圓 / 薄膜厚度計,專為半導體晶圓研磨 / 減薄制程的 在線實時監控 設。
Otsuka大塚電子光譜干涉法晶圓厚度計

一、品牌與原理

  • 品牌大塚電子株式會社 (Otsuka Electronics),日本光學測量儀器大廠

  • 測量原理光譜干涉法 (Spectral Interference) —— 非接觸、非破壞、高精度

  • 核心定位厚膜 / 晶圓在線測厚(區別于薄層膜厚儀),主打 高速、長工作距、產線集成

二、型號與測量范圍(SF-3 系列)

分 4 個子型號,對應不同厚度量程:
表格
型號硅晶圓 (Si) 范圍樹脂 / 膜層范圍
SF-3/2006 ~ 400 μm10 ~ 1000 μm
SF-3/30010 ~ 775 μm20 ~ 1500 μm
SF-3/80020 ~ 1000 μm40 ~ 2000 μm
SF-3/130050 ~ 1300 μm100 ~ 2600 μm

三、核心參數(關鍵)

  • 重復精度±0.01% 以下(高穩定性)

  • 快采樣5 kHz (200 μs / 點),實時監控

  • 工作距離 (WD)3 ~ 200 mm(可穿保護膜 / 玻璃)

  • 光點直徑φ20 ~ 27 μm(微小光斑)

  • 通信LAN (TCP/IP)、I/O 觸發,適合產線集成

  • 尺寸:123 × 224 × 128 mm(緊湊型)

四、主要特點

  1. 在線實時監控:晶圓背面研磨(Backgrind)、CMP 過程厚度閉環控制

  2. 穿透測量:可穿過保護膜、玻璃窗口直接測基底厚度

  3. 多層分析:支持臨時鍵合晶圓 雙層厚度 分離測量

  4. 長工作距:安裝靈活,不怕碰撞、耐粉塵

  5. 高速響應:適配高產能半導體設備

五、典型應用

  • 硅晶圓 (Si wafer)、化合物半導體(GaAs、SiC)厚度測量

  • 300 mm / 450 mm 晶圓、TSV 晶圓背面減薄監控

  • 玻璃基板、樹脂厚膜、封裝層厚度在線檢測

  • 可集成到:研磨機、拋光機、EFEM、機械手平臺

六、采購渠道(中國)

  • 日本大冢電子代理商:玉崎科學儀器(深圳)有限公司(Tamasaki Scientific)


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